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HF-1300型箱式真空鍍(du)膜機

真空室：立式前開門。內膜Φ1300×1500，,304不(bu)銹鋼(gang)；外壁通冷(leng)卻(que)水，內襯不(bu)銹鋼(gang)防污板

真空系統：機械泵+羅茨泵(beng)+2臺擴散泵+維持泵

極限真空：3.0E^-4pa

恢復真空：大氣至4.0E^-3pa≤15min

工作架：Φ1220mm帽(mao)形工件盤等，扇形，行(xing)星

烘烤：采用進口管狀加熱器；最高溫度350℃，可調可控

蒸發源：電阻蒸發源，2只E型電子槍

離子源：Φ12cm考夫曼（可選），進口(kou)

光學膜厚控制：光學專用電源；光學膜厚控制儀；光柵單色儀；波長范圍380-1100nm;反射(she)/透射

石英晶控：SQC310或IC6，低溫(wen)單探頭等

電源：3相，380V，50Hz，約60KW