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HFJC600-II型磁控濺射真空鍍膜機
真空設備
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HFJC600-II型磁(ci)控濺射真空鍍膜機

(應(ying)用于(yu)各種電學(xue)膜、金屬膜和SiO2膜等的設備)

真空室:臥式頂蓋升降。內腔Φ600×700mm,304不銹鋼

真空系統:直聯泵+F250分(fen)子(zi)泵

極限真空:3.0E-4pa

恢復真空:大氣至4.0E-3pa≤15min

烘烤:鹵鎢燈,最高溫度350℃,可調可控

靶源:4個(ge)Φ80靶,DCRF13.56MHz)電(dian)源,1.5KW可調

充氣系統:2路流量(liang)控制

工件機構:公自轉機構,3個Φ70樣品盤;公轉(zhuan)速度1-30rpm,自轉1-120rpm,可(ke)(ke)控可(ke)(ke)調

操作系統:可自(zi)動和(he)手動操(cao)作,工藝參數設置(zhi),完善的水電檢測報警功能

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