HFJC600-II型磁(ci)控濺射真空鍍膜機
(應(ying)用于(yu)各種電學(xue)膜、金屬膜和SiO2膜等的設備)
真空室:臥式頂蓋升降。內腔Φ600×700mm,,304不銹鋼
真空系統:直聯泵+F250分(fen)子(zi)泵
極限真空:3.0E-4pa
恢復真空:大氣至4.0E-3pa≤15min
烘烤:鹵鎢燈,最高溫度350℃,可調可控
靶源:4個(ge)Φ80靶,DC或RF(13.56MHz)電(dian)源,1.5KW可調
充氣系統:2路流量(liang)控制
工件機構:公自轉機構,3個Φ70樣品盤;公轉(zhuan)速度1-30rpm,自轉1-120rpm,可(ke)(ke)控可(ke)(ke)調
操作系統:可自(zi)動和(he)手動操(cao)作,工藝參數設置(zhi),完善的水電檢測報警功能